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“芯”难题怎么解决 清华团队给出了这个答案

来源: 未知 /  作者: 未知  时间:2021-03-02 16:00
  随着网购、移动支付等功能的普及,手机已经一定程度上成为了我们出门的必需品,而更令我们感到自豪的是,如今在世界范围内,中国的手机品牌都能占据一定的市场比重,并且收获不少的粉丝。但即便如此,在手机制造业,我们仍然面临一个问题——芯片。
 
  芯片就好像是手机的心脏与大脑,它直接影响了手机的性能。而尽管此前我国有过自主研发的手机芯片,但是我国并不具备该级别芯片的生产能力。换言之,即便我们完成了芯片的设计工作,生产的环节还是需要委托其他国家来完成。更糟糕的是,不仅仅是手机,绝大多数涉及到高端芯片生产的领域,例如计算机、智能穿戴等,我们都需要仰仗其他国家的技术支持。造成这种情况的直接原因归根结底在于一个设备——光刻机上。
 
  光刻机是生产大规模集成电路的核心设备,技术原理上类似于照片冲印,不过它要做的是将掩膜版上的精细图形通过光线的曝光的方式印制到硅片上。而从技术角度来说,无论是制造生产,还是后续的维护保养工作,光刻机的背后都涉及到非常丰富的光学、电子工业知识基础。可非常遗憾的是,我国目前尚且不具备高端光刻机的生产能力,并且在中高端设备的进口上也受到了限制。
 
  那是不是说掌握高端光刻机的研发生产技术就可以解决我国的“芯”难题呢?一定程度上来说是这样。目前我国在芯片设计上已经相对成熟,如果能实现自主生产,那么至少在芯片的供应以及溢出成本上存在的问题,可以基本得到解决。但是问题在于,如何掌握高端光刻机的研发生产技术。就在最近,清华大学给出了他们的答案。
 
  据悉,2月25日,清华大学工程物理系教授唐传祥研究组与国外研究团队在《自然》发表一篇论文,内容涉及了一种新型粒子加速器光源“稳态微聚束(SSMB)”。并且在清华大学发布的新闻稿中还提到,基于SSMB原理,我们能获得高功率、高重频、窄带宽的相干辐射,且波长甚至可以覆盖到极紫外(EUV)波段。
 
  而对于光刻机来说,波长越短意味着蚀刻精度越高,意味着更强的芯片集成生产能力。而目前的高端芯片基本都是纳米级的,换言之,这项成果直接影响了我国是否有可能自己完成高端光刻机的生产工作,能否打破国际市场上光刻机研发被外企垄断的现状。甚至从结果来说,间接的影响了一些民族企业能否实现进一步的成长与突破。
 
  不过实事求是的说,目前这项技术在光刻机上的使用仍处于试想阶段,我国在高端光刻机的研发上面临的问题更多也更复杂,之后要走的路也很长,背后涉及到的企业合作、技术突破自然也不言而喻。因此解决“芯”难题道阻且长。